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氰化鍍銅工藝
慧聰網(wǎng)
氰化鍍銅工藝在電鍍中的應用及常見(jiàn)故障處理
氰化鍍銅帶給人體健康危害及廢物處理問(wèn)題，在厚鍍層已減少使用。但是由于無(wú)氰鍍銅工藝不夠成熟，存在著(zhù)產(chǎn)品不太穩定、結合力不理想、對前處理要求高、廢水處理困難等缺點(diǎn)，在實(shí)際應用中仍然不能大范圍的取代氰化鍍銅工藝。故而氰化鍍銅仍大量應用于打底電鍍工藝中，如用于鋼鐵、鋅合金、鋁合金、銅合金、鎂合金、鎳合金和鉛合金等金屬及合金上。
廣州市達志化工科技有限公司推出了兩種氰化鍍銅工藝：DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝和DCU-60光亮氰化鍍銅工藝，在滿(mǎn)足上述要求的基礎上還具有以下優(yōu)點(diǎn)：柔軟的可塑性鍍層、容易拋光、良好的導電性、良好的可焊性、易與其他金屬電沉積等等。下面就其工藝特點(diǎn)、操作條件等進(jìn)行一一介紹：
一、工藝特點(diǎn)
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DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝 |
DCU-60光亮氰化鍍銅工藝 |
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1.銅鍍層結晶細致，光亮及均勻。 2.電流密度范圍寬闊，覆蓋能力極佳。 3.有機或無(wú)機雜質(zhì)容忍度高，易于控制。 4.適用于鋼鐵、銅、青銅等不同基體的工件，尤為適合于鋅合金壓鑄件。 5.鍍液可用氰化鉀或氰化鈉配制，效果同樣理想。 |
1．為電鍍鋅基鑄件時(shí)必備的銅層。此光亮氰化銅鍍層平滑、緊密、幼細，故可增加電鍍氰化銅時(shí)間，使整件鋅基鑄件完全被銅層遮蓋好，以后鍍上酸銅及光亮鎳時(shí)，不至發(fā)生毛病。 2．電流密度范圍廣闊，沉積速度較快。 3．可作滾鍍及掛鍍。 4．雜質(zhì)容忍量高，易于控制。 5．如鍍件全部為鋼鐵工件時(shí)，氫氧化鈉含量可調高至10-30克/升。 |
二、鍍液組成及操作條件
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DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝 |
DCU-60光亮氰化鍍銅工藝 |
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氰化銅（CuCN） |
53-71克/升 |
50-70克/升 |
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氰化鈉（NaCN） |
73-98克/升 |
氰化鈉 |
70-100克/升 |
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氫氧化鈉（NaOH） |
1-3克/升 |
氫氧化鈉 |
1-3克/升 |
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DCU-01諾切液 |
30-50毫升/升 |
DCU-01諾切液 |
30-50毫升/升 |
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DL-3堿銅添加劑 |
5-7毫升/升 |
DCU-60A開(kāi)缸劑 |
10-12毫升/升 |
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DL-4堿銅添加劑 |
5-7毫升/升 |
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溫度 |
45-60℃ |
溫度 |
45-60℃ |
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電流密度 |
0.5-5 A/dm2 |
電流密度 |
0.5-4 A/dm2 |
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陽(yáng)極 |
無(wú)氧電解銅 |
陽(yáng)極 |
無(wú)氧電解銅 |
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攪拌方法 |
陰極搖擺 |
攪拌 |
機械搖擺 |
三、組成原料的功用
氰化銅（CuCN） 氰化銅是供給鍍液銅離子的來(lái)源。鍍液中銅離子含量應在37-50克/升。如銅金屬含量在35克/升以下，所用的電流密度（在陰極搖擺方法）不能超越3安培/平方分米。相反的，當采用高電流密度時(shí)，金屬含量也要提高。總括來(lái)說(shuō)，電流密度與鍍液中的適當金屬含量，攪拌程度，游離氰化鉀含量，溫度和光亮劑含量等有相互關(guān)連。
氰化鈉（NaCN） 鍍液中的游離氰化鈉與銅含量的相互關(guān)系。當銅含量為37-50克/升，游離氰化鈉應在15-20克/升之間。所以當游離氰化鈉在10克/升以下，低電流密度區會(huì )起云霧，當游離氰化鈉在20克/升以上，陰極電流效率降低，同時(shí)陰極會(huì )有大量氣體產(chǎn)生。所以游離氰離子的最佳值隨金屬銅量而定。例如金屬銅含量為35克/升，而需要用低電流密度時(shí)，游離氰化鈉應為12克/升左右。
氫氧化鈉（NaOH） 氫氧化鈉可提高鍍液的導電性。如工件為鋅合金鑄件時(shí)，氫氧化鈉宜保持在1-3克/升，以免堿度太侵蝕鋅合金。如工件全部是鋼鐵件時(shí)，氫氧化鈉濃度可調升至10-30克/升。
四、生產(chǎn)維護和添加劑的作用
鍍液中的主要成分要定期分析并調整至如下范圍：
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DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝 |
DCU-60光亮氰化鍍銅工藝 |
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鍍液中的主要成分要定期分析并調整至如下范圍： |
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金屬銅 37-50克/升 |
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游離氰化鈉 15-20克/升 |
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氫氧化鈉 1-3克/升 |
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補給方法： |
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DL-3堿銅添加劑 |
75-125 ml/KAH |
DCU-60A |
視乎效果而定 |
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DL-4堿銅添加劑 |
225-375 ml/KAH |
DCU-60B |
250-300 ml/KAH |
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DCU-01諾切液 |
視乎效果而定 |
DCU-01諾切液 |
視乎效果而定 |
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添加劑作用： |
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DCU-01諾切液：減低陽(yáng)極鈍化，抑制陽(yáng)極溶解速率。含量為30-50毫升/升。 |
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DL-3堿銅添加劑：為有機光亮劑，能使高電流密度區光亮，更是表面活性劑，降低鍍層出現針孔機會(huì )。 |
DCU-60A開(kāi)缸劑：鍍液新開(kāi)缸時(shí)使用，平常適量添加有利于提高低電流區鍍層的光亮度。 |
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DL-4堿銅添加劑：與DL-3堿銅添加劑一起運用時(shí)，能得到全面光澤，即由高至低電流密度區同樣光亮。 |
DCU-60B補給劑：幫助鍍層的光亮平整，消耗量為每1000安培小時(shí)250-300毫升。 |
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* DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝配套產(chǎn)品
1.DCU-02堿銅抑霧劑：用于抑制氰化堿銅液中的堿霧逸出。
2.DCU-03堿銅液清潔劑：用于不停產(chǎn)處理氰化堿銅液中的油污污染。
五、生產(chǎn)應用條件及表現
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DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝 |
DCU-60光亮氰化鍍銅工藝 |
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掛鍍、滾鍍 |
特別適合滾鍍 |
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對鋅合金壓鑄件尤為適合 |
滾鍍光亮銅 |
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鍍層顏色均勻啞光 |
中低區光亮度極佳 |
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產(chǎn)品性能穩定，易操作 |
環(huán)保產(chǎn)品、符合RoHS法規 |
六、常見(jiàn)故障處理
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問(wèn)題 |
原因 |
調整方法 |
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DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝 |
DCU-60 光亮氰化鍍銅工藝 |
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1. 鍍層低電流密度區不光亮 |
游離氰化鈉不足混入無(wú)機雜質(zhì)光亮劑不足 |
補充氰化鈉低電流處理添加堿銅DL-4 |
補充氰化鈉低電流處理添加堿銅60A |
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2. 鍍層亮度不夠( 花白) |
光亮劑不足鍍液成分比例失調 |
添加堿銅DL-3 添加堿銅DL-4 調整成分 |
添加堿銅60B 調整成分 |
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3. 鍍層光亮范圍窄 |
銅離子含量低氰化鈉過(guò)量光亮劑不足 |
補充氰化亞銅補充氰化亞銅添加堿銅DL-4 |
補充氰化亞銅補充氰化亞銅添加堿銅60A |
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4. 電流效率低 |
氰化亞銅含量低氰化鈉過(guò)量氫氧化鈉含量低碳酸鈉含量過(guò)低鉻雜質(zhì)含量過(guò)高 |
添加氰化亞銅添加氰化亞銅增大陽(yáng)極面積提高碳酸鈉含量除鉻 |
添加氰化亞銅添加氰化亞銅增大陽(yáng)極面積提高碳酸鈉含量除鉻 |
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5. 出現毛刺、針孔 |
銅離子含量過(guò)高游離氰化鈉含量低有機物污染混進(jìn)不溶性雜質(zhì)光亮劑不足 |
減少陽(yáng)極面積增加氰化鈉補充量活性炭過(guò)濾過(guò)濾添加堿銅DL-3 |
減少陽(yáng)極面積增加氰化鈉補充量活性炭過(guò)濾過(guò)濾添加堿銅60A |
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6. 堿銅光劑消耗過(guò)快 |
游離氰化鈉過(guò)量 |
補充氰化亞銅增大陽(yáng)極面積 |
補充氰化亞銅增大陽(yáng)極面積 |
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7. 槽壓過(guò)高 |
槽液電導太小陽(yáng)極表面鈍化 DCU-01諾切液不足 |
補充氫氧化鈉除掉陽(yáng)極鈍化膜加大陽(yáng)極面積補充DCU-01諾切液 |
補充氫氧化鈉除掉陽(yáng)極鈍化膜加大陽(yáng)極面積補充DCU-01諾切液 |
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七、總結 廣州市達志化工科技有限公司推出的兩種氰化鍍銅工藝：DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝和DCU-60光亮氰化鍍銅工藝，這兩個(gè)工藝成本比預鍍鎳低、且保證了基底和主銅層高結合力，同時(shí)DL-3&4 高效能氰化鍍銅工藝穩定、容易操作，適用于掛鍍和滾鍍；DCU-60光亮氰化鍍銅工藝在滾鍍中有極好的表現，鍍層極其光亮幾乎可與酸銅相媲美。這兩個(gè)工藝效果極佳，幾乎能滿(mǎn)足電鍍工廠(chǎng)對前處理工藝之后的預鍍銅的所有需求。 鼎成推薦
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